용융 석영
석영 반응 튜브
에피택시, CVD, RTP 시스템용 고순도 용융 석영 반응 튜브입니다. 폴리싱 내경, 사이드 포트, 정밀 연삭 플랜지를 지원합니다.
Material: Synthetic fused silica Grade 2 (standard) or Grade 1 Inner Surface Finish: Ra ≤ 0.8 μm (standard) / Ra ≤ 0.1 μm (polished) OD Tolerance: ±0.3 mm Wall Thickness Uniformity: ±10%
맞춤형 치수 및 사양 제공 가능합니다.
기술 사양
| 항목 | 값 |
|---|---|
| Material | Synthetic fused silica Grade 2 (standard) or Grade 1 |
| Inner Surface Finish | Ra ≤ 0.8 μm (standard) / Ra ≤ 0.1 μm (polished) |
| OD Tolerance | ±0.3 mm |
| Wall Thickness Uniformity | ±10% |
| He Leak Rate (All Welds) | < 1×10⁻⁹ mbar·L/s |
| Max OD | 400 mm |
석영 반응 튜브
석영 반응 튜브
석영 반응 튜브는 CVD, 에피택시, ALD, RTP 반응 챔버에 통합되는 고순도 튜브입니다. 가스 분포, 내면 상태, 연결 정밀도가 공정 안정성에 영향을 줍니다.
제조 및 품질
내면 폴리싱, 사이드 포트 용접, 플랜지 연삭, 어닐링을 통해 치수, 표면, 누설 성능을 관리합니다.
문의 시 필요한 정보
튜브 치수, 포트 수와 위치, 내면 조도, 플랜지 사양, 사용 공정을 알려 주십시오.
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