Cuarzo fundido
Tanque de limpieza de cuarzo
Recipientes soldados de cuarzo fundido para limpieza húmeda con HF, SC-1, SC-2 y piraña en procesos de semiconductores, en configuración simple o cascada y tamaños personalizados.
Dimensiones y especificaciones personalizadas disponibles bajo pedido.
Especificaciones Técnicas
| Parámetro | Valor |
|---|---|
| Material | Fused quartz Grade 1 (≥ 99.99% SiO₂) |
| Wall Thickness | 5–10 mm (size dependent) |
| He Leak Rate (All Welds) | < 1×10⁻⁹ mbar·L/s |
| Max Operating Temperature | 200°C (HF process max: 80°C) |
| Chemical Compatibility | HF, HCl, H₂SO₄, H₂O₂, HNO₃, NH₄OH, SC-1, SC-2, Piranha |
| Weld Joint Strength | ≥ 95% of parent material |
Tanque de limpieza de cuarzo
Tanque de limpieza de cuarzo
Los tanques de cuarzo se usan en procesos húmedos de alta pureza con HF, SC-1, SC-2, piraña y químicos relacionados. Son adecuados para wet benches que requieren baja contaminación metálica, resistencia química y estabilidad térmica.
Fabricación y calidad
Cortamos placas de cuarzo, soldamos por fusión, aliviamos tensión y verificamos fugas. El tamaño del tanque, drenaje, rebose y estructura en cascada pueden personalizarse.
Información para cotizar
Indique químico, temperatura, dimensiones del tanque, posición de puertos, método de manipulación y requisitos de limpieza o embalaje.
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